dc.contributor.author | ДОРОГАН, В. В. | |
dc.contributor.author | НЕГРЕСКУЛ, В. В. | |
dc.contributor.author | ТРОФИМ, В. Г. | |
dc.contributor.author | ЧУМАК, В. А. | |
dc.date.accessioned | 2021-03-19T10:48:28Z | |
dc.date.available | 2021-03-19T10:48:28Z | |
dc.date.issued | 1985 | |
dc.identifier.citation | ДОРОГАН, В. В., НЕГРЕСКУЛ, В. В., ТРОФИМ, В. Г. Излучательные свойства эпитаксиальных слоев GaAs, отделенных от подложки. In: Pisma v Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki. 1985, V. 11, N. 9 pp. 550–553. ISSN 0320-0116. | en_US |
dc.identifier.uri | http://repository.utm.md/handle/5014/13907 | |
dc.description.abstract | Задачей настоящей работы являлось исследование излучательных свойств нелегированных и легированных Zn, Sn, Ge и Si слоев GaAs после их отделения о т несущей подложки, а также установление влияния промежуточного слоя AlxGa1-xAs на свойства отделенных от подложки слоев. | en_US |
dc.language.iso | ru | en_US |
dc.publisher | Ioffe Institute, RAS | en_US |
dc.rights | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 United States | * |
dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/ | * |
dc.subject | эпитаксиальные слои | en_US |
dc.subject | монокристаллические подложки | en_US |
dc.title | Излучательные свойства эпитаксиальных слоев GaAs, отделенных от подложки | en_US |
dc.type | Article | en_US |
The following license files are associated with this item: