Efectul CL asupra conductibilității straturilor subțiri de ZNO: GA

Abstract

Investigarea influenței diferiților factori tehnologici asupra proprietăților electrice ale straturilor subțiri ZnO, obținute prin pulverizare magnetron DC a țintelor de ZnO:Ga:Cl. Efectul temperaturii de depunere, grosimea stratului și rata de creștere au fost investigate. Au fost analizată de asemenea transparența UV-VIS, cristalinitatea și dimensiunea cristalită. Dopajul cu Cl este esențial la cele mai scăzute temperaturi, ceea ce poate reduce rezistivitatea straturilor subțiri de 2 ori la o temperatură de depunere de 100 °C. Au fost obținute cu succes straturi subțiri de ZnO cu o rezistivitate de 2.59*10–4 cm și o transparență medie în domeniul spectral vizibil de 89 %. Se propune un model teoretic, care ia în considerare clorură mobilă de Galiu pentru a explica avantajul co-dopajului cu Cl.