DSpace Repository

New vapor deposited dielectric polymer thin films for electronic applications

Show simple item record

dc.contributor.author SCHRÖDER, Stefan
dc.contributor.author MAGARIU, Nicolae
dc.contributor.author STRUNSKUS, Thomas
dc.contributor.author ABABII, Nicolai
dc.contributor.author LUPAN, Oleg
dc.contributor.author FAUPEL, Franz
dc.date.accessioned 2022-10-17T11:57:00Z
dc.date.available 2022-10-17T11:57:00Z
dc.date.issued 2022
dc.identifier.citation SCHRÖDER, Stefan, MAGARIU, Nicolae, STRUNSKUS, Thomas et al. New vapor deposited dielectric polymer thin films for electronic application. In: Journal of Engineering Science. 2022, vol. 29, nr. 3, pp. 34-44. ISSN 2587-3474, eISSN 2587-3482. en_US
dc.identifier.issn 2587-3474
dc.identifier.issn 2587-3482
dc.identifier.uri https://doi.org/10.52326/jes.utm.2022.29(3).03
dc.identifier.uri http://repository.utm.md/handle/5014/21544
dc.description.abstract Dielectric materials are of great interest in a vast amount of applications ranging from cable insulation to advanced electronic devices. The emerging trend of device miniaturization is creating an increased demand for dielectric thin films that can be produced precisely on the nanometer scale. In addition, special mechanical properties are often required, for example in the field of flexible organic electronics. Polymers are first-choice materials for this purpose. However, it is extremely difficult to produce precise nanoscale thin films, which have a low defect density and are free of e.g. residual solvent, by wet chemistry approaches. Initiated chemical vapor deposition (iCVD) is a solvent-free polymer thin film deposition process which can be used to produce high quality dielectric thin films with nanoscale control and circumvents thus these problems. This work demonstrates the versatility of the iCVD process in the field of electrical applications by some new application examples of iCVD. By adding e.g. a hydrophobic organosiloxane thin film on columnar zinc oxide (ZnO:Fe) gas sensing structures there was a change in the selectivity from ethanol to hydrogen, as well as improved performance at high humidity level. The modified sensors can thus be used in humid ambient, especially for breathing tests, which can lead to the diagnosis of some diseases by cutting edge non-invasive approaches. en_US
dc.description.abstract Materialele dielectrice prezintă interes pentru numeroase aplicații, de la izolarea cablurilor până la dispozitive electronice avansate. Tendința emergentă de miniaturizare a dispozitivelor creează o cerere crescută pentru pelicule subțiri dielectrice care pot fi produse exact la scara nanometrică. În plus, sunt adesea necesare proprietăți mecanice speciale, de exemplu în domeniul electronicii organice flexibile. Polimerii sunt materiale de primă alegere în acest scop. Cu toate acestea, este extrem de dificil să se producă filme subțiri precise la scară nanometrică, care au o densitate scăzută a defectelor și sunt lipsite de solvent rezidual, prin abordări ale chimiei umede. Depunerea chimică de vapori inițiată (iCVD) este un proces de formare a peliculei subțiri de polimer fără solvenți care poate fi utilizat pentru a produce pelicule dielectrice de înaltă calitate cu control la scară nanometrică și eludează astfel aceste probleme. Această lucrare demonstrează versatilitatea procesului iCVD în domeniul aplicațiilor electrice prin câteva exemple noi de aplicare a iCVD. Prin adăugarea, spre exemplu, a peliculei subțiri de organosiloxan hidrofob pe structurile de detectare a gazului de oxid de zinc columnar (ZnO:Fe), se atestă o schimbare a selectivității de la etanol la hidrogen, precum și o performanță îmbunătățită la un nivel ridicat de umiditate. Senzorii modificați pot fi astfel utilizați în mediu umed, în special pentru teste de respirație, care pot duce la diagnosticarea unor boli prin abordări non-invazive de ultimă oră. en_US
dc.language.iso en en_US
dc.publisher Technical University of Moldova en_US
dc.relation.ispartofseries Journal of Engineering Science;2022, V. 29, N. 3
dc.rights Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 United States *
dc.rights.uri http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/ *
dc.subject polymers en_US
dc.subject vapor depositions en_US
dc.subject electronic materials en_US
dc.subject dielectrics en_US
dc.subject electrets en_US
dc.subject gas sensors en_US
dc.subject thin films en_US
dc.subject electronic applications en_US
dc.subject polimeri en_US
dc.subject depuneri chimice de vapori en_US
dc.subject materiale electronice en_US
dc.subject dielectrice en_US
dc.subject electreți en_US
dc.subject senzori de gaze en_US
dc.title New vapor deposited dielectric polymer thin films for electronic applications en_US
dc.title.alternative Noi filme subțiri de polimeri dielectrici obținuți cu vapori pentru aplicații electronice en_US
dc.type Article en_US


Files in this item

The following license files are associated with this item:

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 United States Except where otherwise noted, this item's license is described as Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 United States

Search DSpace


Advanced Search

Browse

My Account